深层次了解下边的结论对结构设计是非常关键的。

1）材料的导电性和导磁性越好，屏蔽效能越高，但实际上的金属材料无法兼顾这两个层面，比如铜的导电性不错，可是导磁性很差；铁的导磁性不错，可是导电性比较差。应当选用什么材料，按照实际屏蔽主要是依赖反射损耗、或是吸收损耗来确定是偏重于导电性或是导磁性；

2）频率较低的情况下，吸收损耗不大，反射损耗是屏蔽效能的主要是机理，要尽可能提升反射损耗；

3）反射损耗与辐射源的特点有关，对电场辐射源，反射损耗很大；对磁场辐射源，反射损耗不大。因而，对磁场辐射源的屏蔽主要是借助材料的吸收损耗，应当选用磁导率较高的材料做屏蔽材料。

4）反射损耗与屏蔽体到辐射源的距离有关，对电场辐射源，距离越近的，则反射损耗越大；对磁场辐射源，距离越近的，则反射损耗越小；合理分辨辐射源的性质，确定它应当靠近屏蔽体，或是原理屏蔽体，是结构设计的一个关键具体内容。

5）频率较高时，吸收损耗是主要是的屏蔽机理，这时候与辐射源是电场辐射源或是磁场辐射源没有太大的关系。

6）电场波是最容易屏蔽的，平面波次之，磁场波是最不容易屏蔽的。尤其是（1KHz以下）低频磁场，难以屏蔽。对低频磁场，要选用高导磁性材料屏蔽，影响到屏蔽材料的多种要素乃至选用高导电性材料和高导磁性材料复合起来的材料。

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